Bu makineleri yalnızca bir şirket üretiyor, Hollandalı ASML şirketi ve ikinci nesil UV makineleri zaten mevcut. High-NA olarak bilinen bu 400 milyon dolarlık makineler, dökümhanelerin 7nm ve altındaki proses düğümlerini kullanarak entegre devreler oluşturmasına yardımcı oluyor. Açıkçası, çip yapmak için bir dökümhane açmak büyük miktarda para gerektiriyor ve bu maliyetler akıllı telefon üreticilerine aktarılıyor, onlar da bunları bize aktarıyor.
Okinawa Bilim ve Teknoloji Enstitüsü’nün öncülük ettiği yenilikçi bir UV ışığı, çip üretiminde ezber bozabilir
Solda geleneksel EUV modeli ve sağda OIST’in daha ucuz modeli. | Resim kredisi-OIST
OIST raporu, yeni UV makine teknolojilerinin daha önce çözülemez olduğu düşünülen iki sorunu çözdüğünü belirtiyor. Yeni UV makinesi yalnızca iki aynanın kullanılmasını gerektiren bir optik görüntüleme sistemi kullanıyor. İkinci yenilik, UV ışığının, ışık yolunu engellemeden düz bir ayna üzerinde mantıksal desenlere yönlendirilmesine olanak tanıyor. Profesör Shintake, “Bu buluş, bu bilinmeyen sorunları neredeyse tamamen çözebilecek ileri bir teknolojidir” diyor.
UV ışınları çok kısa dalga boylarına sahip olduğundan şeffaf merceklerden geçemezler. Bunun yerine UV makinelerinde ışık, ışığı zikzak şeklinde yönlendiren hilal şeklindeki aynalar kullanılarak yönlendirilir. Işık merkez eksenden saptığı için makinenin genel performansını azaltır.
Shintake, iki eksenel simetrik aynayı küçük merkezi açıklıklarla düz bir çizgide hizalayarak üstün sonuçlar elde edilebileceğini keşfetti. Geleneksel UV makineleri 1 megavattan fazla güç kullanıyor ve 200 milyon dolardan fazla sermaye maliyetine sahipken, yenilikçi düşük maliyetli makineler 100 kilovattan daha az güç kullanıyor ve 100 milyon dolardan daha az sermaye maliyetine sahip. Ek olarak, tipik UV cihazları 200+ watt’lık bir ışık kaynağı gerektirirken, düşük maliyetli bir ünite 20 watt’lık bir ışık kaynağı gerektirir.
Ayna sayısını 10’dan 4’e düşürmek cihazın çok fazla güç kaybetmesini engelleyebilir
Yansıtıcı aynadan gelen her ışık yansımasında UV enerjisi %40 oranında zayıflar. Rapor, UV kaynağından çipe kadar kullanılan ayna sayısını dörde sınırlayarak “gücün %10’undan fazlasının geçtiğini, bunun da birkaç on wattlık çıkışa sahip küçük bir UV kaynağının bile geçebileceği anlamına geldiğini” söylüyor. geç.” Aynı derecede verimli çalışan bu, enerji kullanımında önemli bir azalmaya yol açabilir.” Geleneksel UV ekranda kullanılan altı ekran sisteminin yerini alan yeni iki aynalı ekranla daha az enerji israf ediliyor.
Profesör Shintake, “Küresel UV litografi pazarının 2024’te 8,9 milyar ABD dolarından 2030’da 17,4 milyar ABD dolarına ulaşması ve yıllık ortalama %12 büyüme oranıyla büyümesi bekleniyor” diyor ve şöyle devam ediyor: “Bu patent muazzam ekonomik faydalar sağlama potansiyeline sahip. .”
“Pop kültürünün ninjası. Sosyal medya fanatiği. Tipik problem çözücü. Kahve pratisyeni. Çok aşık olur. Seyahat tutkunu.”
More Stories
Apple, iOS 18.1’de kullanıcıların iCloud adreslerini değiştirmesine izin veriyor
Samsung Galaxy S25 Ultra’nın iPhone 16 Pro Max’ten daha iyi performans göstermesinin 7 yolu
iPhone 17 hava sızıntıları, önemli iOS güncellemesi, en iyi iPhone 16 kılıfları